[发明专利]光栅制造方法及光栅在审
| 申请号： | 201610059189.0 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN107015300A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 尚飞;郭海侠;冯晓芳 | 申请（专利权）人： | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨文娟,黄健 |
| 地址： | 266100 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光栅制造方法及光栅，该方法包括在基板上涂覆电致抗蚀剂，形成第一层模板；在所述第一层模板上涂覆光刻胶，形成第二层模板；对涂覆有双层模板的基板进行光栅曝光和光栅显影，在所述第二层模板上形成至少两条第一缝隙，以使所述第一缝隙底部的第一层模板暴露出来；对所述第一层模板中暴露出来的部分进行湿法腐蚀形成至少两条第二缝隙，以使所述第二缝隙底部的基板暴露出来；通过干法刻蚀对所述基板中暴露出来的部分进行刻蚀，形成光栅。可见，通过本发明实施例提供的光栅制造方法所制造的光栅中缝隙的侧壁表面非常光滑，提高了出光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光栅制造方法，其特征在于，包括：在基板上涂覆电致抗蚀剂，形成第一层模板；在所述第一层模板上涂覆光刻胶，形成第二层模板；对涂覆有双层模板的基板进行光栅曝光和光栅显影，在所述第二层模板上形成至少两条第一缝隙，以使所述第一缝隙底部的第一层模板暴露出来；对所述第一层模板中暴露出来的部分进行湿法腐蚀形成至少两条第二缝隙，以使所述第二缝隙底部的基板暴露出来；通过干法刻蚀对所述基板中暴露出来的部分进行刻蚀，形成光栅。
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