[发明专利]一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅及其制备方法

摘要

本发明属于牙膏用二氧化硅技术领域，涉及一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅及其制备方法。所述制备方法：S1、将固体硅酸钠液化后加水调制硅酸钠溶液；S2、将稀硫酸和二氧化硅粉体混合，搅拌下加硅酸钠溶液至pH值2~3，搅拌，得到酸性硅溶胶；S3、注入硅酸钠溶液和氯化钠溶液，搅拌，加热，加硫酸至pH值10~11，加所述酸性硅溶胶；S4、同时加硅酸钠溶液和硫酸，并保持pH值9.0~9.5，硅酸钠溶液加完继续加入硫酸至pH值2~3，陈化，压滤，洗涤，干燥破碎得到低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅，其RDA值为120~140，PCR值为120~140，PCR/RDA=0.86~1，具有低磨损高清洁的性能。

主权项

一种低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将SiO₂:Na₂O=3.3~3.45的固体硅酸钠加压加温液化后加水分别调制浓度为0.6~0.8M的硅酸钠溶液、浓度为1~1.3M的硅酸钠溶液和浓度为1.8~2.2M的硅酸钠溶液，备用；S2、将稀硫酸和粒径为8~15μm的二氧化硅粉体混合，高速搅拌下加入所述浓度为0.6~0.8M的硅酸钠溶液至pH值为2~3，搅拌10min，得到酸性硅溶胶，备用；S3、往反应罐注入所述浓度为1~1.3M的硅酸钠溶液10~12m³，加入氯化钠溶液10~12m³，搅拌10min，然后加热至75~90℃，开启搅拌，加入硫酸溶液至pH值为10~11，停止加酸，加入所述酸性硅溶胶2~5m³，搅拌5min；S4、保持温度，同时加入所述浓度为1.8~2.2M的硅酸钠溶液10~12m³和硫酸溶液，并保持过程pH值在9.0~9.5，硅酸钠溶液加入完毕后继续加入硫酸溶液至pH值到2~3，停止加酸，陈化10min，将形成的二氧化硅进行压滤，洗涤至二氧化硅滤饼的洗涤水中盐含量低于2%，通过气流干燥后用气流破碎机破碎至粒径为9~11μm，得到低磨损高清洁牙膏用磨擦型二氧化硅。