[发明专利]具有波前测量装置与光学波前操纵器的投射曝光设备有效
申请号: | 201580068983.5 | 申请日: | 2015-12-16 |
公开(公告)号: | CN107111241B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | M.阿恩茨;S.布雷迪斯特尔;T.格鲁纳;J.哈杰斯;M.施瓦布 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种投射曝光设备,包含投射镜头(12);波前测量装置,其测量在该投射镜头(12)中的波前,该波前测量装置包含莫尔光栅布置(14),其具有设计为分别布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18),其中该物光栅(16)与该像光栅(18)以从该物光栅(16)到该像平面(22)上的成像(24)与该像光栅(18)产生莫尔叠加图案的方式以真实比例的方式彼此协调,其中该莫尔光栅布置(14)以针对该物平面(20)中物场(26)和/或该像平面(22)中像场(28)的多个场点同时产生莫尔叠加图案的方式设计。 | ||
搜索关键词: | 具有 测量 装置 光学 操纵 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】:
一种曝光晶片的微光刻投射曝光设备,包含:投射镜头;光学波前操纵器(48),其操纵在该投射镜头中的波前;以及波前测量装置(10a、b),其测量在该投射镜头(12)中的波前,该波前测量装置(10a、b)包含莫尔光栅布置(14),其具有分别设计为布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18),其中该物光栅(16)与该像光栅(18)以从该物光栅(16)到该像平面(22)上的成像(24)与该像光栅(18)产生莫尔叠加图案的方式以真实比例的方式彼此协调,其中该莫尔光栅布置(14)设计为使得针对该物平面(20)中的物场(26)和/或该像平面(22)中的像场(28)的多个场点同时产生该莫尔叠加图案,其中该光学波前操纵器(48)与该波前测量装置(10a、b)相互作用,使得基于该波前测量装置(10a、b)的至少一个测量结果,可控该光学波前操纵器,其中该波前操纵器校正该投射镜头(12)中的波前,以优化该投射镜头(12)的成像性能,且其中该波前操纵器配置成在闭环中进行控制。
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