[发明专利]光刻系统的连接配置有效
| 申请号： | 201580067252.9 | 申请日： | 2015-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN107003623B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | D.谢弗;J.普罗赫纳;A.沃姆布兰德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种光刻系统(100)的连接配置(200A、200B)，其具有第一构件(212)、第二构件(206)、第一界面元件(210)和第二界面元件(218)，所述第一界面元件在第一接合部(220)处可释放地连接至第一构件(212)，所述第二界面元件(218)在第二接合部(222)处可释放地连接至第二构件(206)。第一界面元件(210)具有第一接触表面(226)，第二界面元件(218)具有第二接触表面(228)，并且在两个接触表面(226、228)在第三接合部(224)处连接之前，两个接触表面(226、228)中的至少一个构造为对准和/或选择为补偿第一构件(212)与第二构件(206)之间的偏移。第一界面元件(210)的第一接触表面(226)与第二界面元件(218)的第二接触表面(228)在第三接合部(224)处通过材料配合连接来连接。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 连接 配置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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