[发明专利]光刻系统的连接配置有效

专利信息
申请号: 201580067252.9 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN107003623B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: D.谢弗;J.普罗赫纳;A.沃姆布兰德 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光刻 系统 连接 配置
【权利要求书】:

1.一种具有至少一个连接配置(200A、200B)的光刻系统,所述连接配置(200A、200B)包含:

第一构件(212),

第二构件(206),

第一界面元件(210),其在第一接合部(220)处可释放地连接至该第一构件(212),以及

第二界面元件(218),其在第二接合部(222)处可释放地连接至该第二构件(206),

其中该第一界面元件(210)具有第一接触表面(226),该第二界面元件(218)具有第二接触表面(228),并且在所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)在第三接合部(224)处连接之前,所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)中的至少一个构造为对准和/或选择为补偿该第一构件(212)与该第二构件(206)之间的偏移,

其中该第一界面元件(210)的第一接触表面(226)与该第二界面元件(218)的第二接触表面(228)在该第三接合部(224)处通过材料配合连接来连接。

2.如权利要求1的光刻系统,其中所述第一和第二界面元件(210、218)的第一接触表面(226)和第二接触表面(228)中的至少一个能够关于最短连接路径(418)对准,或关于与该最短连接路径垂直的方向(420)对准,和/或关于所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)彼此相关角度对准。

3.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)彼此平行。

4.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述第一界面元件(210)和所述第二界面元件(218)中的至少一个具有不对称形状(218-1),以补偿所述第一构件(212)和所述第二构件(206)之间的偏移。

5.如权利要求4的光刻系统,其中该不对称形状(218-1)为楔形。

6.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一界面元件(210)具有基座(302)和可倾斜可固定元件(300),以相对于该基座(302)倾斜该第一接触表面(226),和/或其中该第二界面元件(218)具有基座(302)和可倾斜可固定元件(300),以相对于该基座(302)倾斜该第二接触表面(228)。

7.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一界面元件(210)的该第一接触表面(226)为平面的,和/或该第二界面元件(218)的该第二接触表面(228)为平面的。

8.如权利要求6的光刻系统,其中该第一界面元件(210)和/或该第二界面元件(218)的可倾斜可固定元件(300)构造成球形盖,并且其上固定该可倾斜可固定元件(300)的构件具有对应的凹槽。

9.如权利要求8的光刻系统,其中该基座(302)具有固定元件(312),其夹住该可倾斜可固定元件(300)抵靠所述构件用于固定。

10.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一构件(212)具有承载结构,并且该第二构件(206)具有光学装置。

11.如权利要求10的光刻系统,其中该光学装置具有框架(204)和反射镜(202)或透镜元件。

12.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述光刻系统是EUV光刻系统(100)。

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