[发明专利]光刻系统的连接配置有效
| 申请号: | 201580067252.9 | 申请日: | 2015-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN107003623B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
| 发明(设计)人: | D.谢弗;J.普罗赫纳;A.沃姆布兰德 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻 系统 连接 配置 | ||
1.一种具有至少一个连接配置(200A、200B)的光刻系统,所述连接配置(200A、200B)包含:
第一构件(212),
第二构件(206),
第一界面元件(210),其在第一接合部(220)处可释放地连接至该第一构件(212),以及
第二界面元件(218),其在第二接合部(222)处可释放地连接至该第二构件(206),
其中该第一界面元件(210)具有第一接触表面(226),该第二界面元件(218)具有第二接触表面(228),并且在所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)在第三接合部(224)处连接之前,所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)中的至少一个构造为对准和/或选择为补偿该第一构件(212)与该第二构件(206)之间的偏移,
其中该第一界面元件(210)的第一接触表面(226)与该第二界面元件(218)的第二接触表面(228)在该第三接合部(224)处通过材料配合连接来连接。
2.如权利要求1的光刻系统,其中所述第一和第二界面元件(210、218)的第一接触表面(226)和第二接触表面(228)中的至少一个能够关于最短连接路径(418)对准,或关于与该最短连接路径垂直的方向(420)对准,和/或关于所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)彼此相关角度对准。
3.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述第一接触表面(226)和所述第二接触表面(228)彼此平行。
4.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述第一界面元件(210)和所述第二界面元件(218)中的至少一个具有不对称形状(218-1),以补偿所述第一构件(212)和所述第二构件(206)之间的偏移。
5.如权利要求4的光刻系统,其中该不对称形状(218-1)为楔形。
6.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一界面元件(210)具有基座(302)和可倾斜可固定元件(300),以相对于该基座(302)倾斜该第一接触表面(226),和/或其中该第二界面元件(218)具有基座(302)和可倾斜可固定元件(300),以相对于该基座(302)倾斜该第二接触表面(228)。
7.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一界面元件(210)的该第一接触表面(226)为平面的,和/或该第二界面元件(218)的该第二接触表面(228)为平面的。
8.如权利要求6的光刻系统,其中该第一界面元件(210)和/或该第二界面元件(218)的可倾斜可固定元件(300)构造成球形盖,并且其上固定该可倾斜可固定元件(300)的构件具有对应的凹槽。
9.如权利要求8的光刻系统,其中该基座(302)具有固定元件(312),其夹住该可倾斜可固定元件(300)抵靠所述构件用于固定。
10.如权利要求1或2的光刻系统,其中该第一构件(212)具有承载结构,并且该第二构件(206)具有光学装置。
11.如权利要求10的光刻系统,其中该光学装置具有框架(204)和反射镜(202)或透镜元件。
12.如权利要求1或2的光刻系统,其中所述光刻系统是EUV光刻系统(100)。
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