[发明专利]光刻方法和设备有效
| 申请号： | 201580065410.7 | 申请日： | 2015-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN107003618B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | J·R·唐斯;J·J·M·巴塞曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种校正由光刻设备的投影系统造成的像差的方法，所述方法包括：使用位于所述光刻设备中的传感器来执行由所述投影系统造成的像差的测量；基于自机器状态的改变以来所述光刻设备的操作历史确定是否将所测量的像差与之前使用所述传感器而获得的像差测量进行平均化；如果确定不应执行平均化，则使用所测量的像差来计算待应用于所述光刻设备的校正；如果确定应执行平均化，则使用平均化的像差测量来计算待应用于所述光刻设备的校正；以及将所计算的校正应用于所述光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻设备 平均化 像差 校正 投影系统 像差测量 测量 传感器 应用 方法和设备 操作历史 机器状态 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种校正由光刻设备的投影系统造成的像差的方法，所述方法包括：使用位于所述光刻设备中的传感器来执行对于由所述投影系统造成的像差的测量；基于自机器状态的改变以来所述光刻设备的操作历史确定是否将所测量的像差与之前使用所述传感器而获得的像差测量进行平均化；如果确定不应执行平均化，则使用所测量的像差来计算待应用于所述光刻设备的校正；如果确定应执行平均化，则使用平均化的像差测量来计算待应用于所述光刻设备的校正；和将所计算的校正应用于所述光刻设备。
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