[发明专利]用于处理基板的下侧的方法和设备在审
| 申请号： | 201580063994.4 | 申请日： | 2015-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107112259A | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 卡特林·魏泽;贝恩德-乌韦·桑德;斯蒂芬·奎塞尔;帕特里克·甘特;斯蒂芬·亚历克西斯·佩狄亚狄塔基斯 | 申请（专利权）人： | 雷纳技术有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京金恒联合知识产权代理事务所11324 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 德国古*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用处理介质(70)处理平面基板(10)的下侧的方法，其中使基板的下侧(14)防水，随后保护液膜(66)为形成在基板的上侧(15)上，然后使处理介质(70)与基板(10)的下侧(14)接触，并且保护上侧(15)免受处理的影响介质(70)和/或通过保护液膜(66)的放气。本发明还涉及一种用于执行所述方法的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用处理介质(70)处理平坦基板(10)的下侧的方法，其中‑使基板的下侧(14)变得疏水；‑随后在基板(10)的上侧(15)上形成保护液膜(66)；‑随后使处理介质(70)与基板(10)的下侧(14)接触，并使上侧(15)被保护液膜(66)所保护以免受处理介质(70)和/或来自其的气体的作用。
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