[发明专利]防反射膜、透镜以及摄像装置有效
| 申请号： | 201580052923.4 | 申请日： | 2015-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN106796308B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 高桥裕树;饭田毅 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;B32B7/02;B32B17/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王亚爱 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种粘附性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。对光学基材的表面成膜碳氢膜，作为以高折射率层发挥功能的第1层。在第1层上成膜折射率低于第1层的折射率的MgF2膜，作为以低折射率层发挥功能的第2层。通过相同的方法形成包括碳氢膜的第3层、包括MgF2膜的第4层。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜以及MgF2膜。在成膜碳氢膜时，将氩和氢的混合气体供给至真空槽，将膜中的一部分C‑C键取代为C‑H键。通过氢化而切断一部分C‑C键，从而能够释放通过C‑C键积存的应变即应力。可以获得粘附性优异并且无膜破坏的防反射膜。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 透镜 以及 摄像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种防反射膜，其设置于包括硫属化物玻璃的基材的表面，从所述基材侧依次具有多个层，其中所述硫属化物玻璃包括Ge、Se以及Sb，层叠于第1层的第2层的折射率低于与所述基材接触的所述第1层的折射率，所述防反射膜交替地具有多个所述第1层以及所述第2层，该防反射膜的特征在于，与所述基材接触的所述第1层包括碳氢膜，所述碳氢膜的含氢率ch在0[at.％]＜ch≤6.1[at.％]的范围内。
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