[发明专利]具有内部通道的化学机械研磨垫在审
| 申请号： | 201580050626.6 | 申请日： | 2015-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN106716604A | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | J·G·方;R·巴贾杰;K·克里希南;M·C·奥里拉利;F·C·雷德克;R·E·帕里;G·E·孟克;D·莱德菲尔德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种用于化学机械研磨的研磨垫。研磨垫包括具有支撑表面的基底区。研磨垫进一步包括多个研磨特征，该等特征形成研磨表面，该研磨表面与支撑表面相对。研磨垫进一步包括一个或多个通道，该等通道形成于研磨垫的内部区域中，且至少部分地围绕研磨垫的中心延伸，其中每一通道流体耦接至至少一个端口。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 内部 通道 化学 机械 研磨 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械研磨的研磨垫，包括：基底，具有支撑表面；多个研磨特征，所述多个研磨特征形成研磨表面，所述研磨表面与所述支撑表面相对；及一个或多个通道，形成于所述研磨垫的内部中，所述一个或多个通道至少部分地围绕所述研磨垫的中心延伸，其中每一通道流体耦接至至少一个端口。
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