[发明专利]对脉冲光束的光谱特征的估计有效
| 申请号： | 201580030283.7 | 申请日： | 2015-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN106462081B | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | T·P·达菲;H·P·戈德弗里德 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于估计由光源产生的并且被引导朝向光刻装置的晶片的脉冲光束的光谱特征的方法。方法包括：接收光束的脉冲的N个光谱的集合；将所接收的N个光谱保存到保存的集合；对保存的集合中的光谱进行变换以形成变换后的光谱的集合；对变换后的光谱求平均以形成平均光谱；以及基于平均光谱来估计脉冲光束的光谱特征。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 光束 光谱 特征 估计 | ||
【主权项】：
1.一种估计脉冲光束的光谱特征的方法，所述脉冲光束由光源产生并且被引导朝向光刻装置的晶片，所述方法包括：/n接收所述光束的脉冲的N个光谱的集合；/n将所接收的N个光谱保存到保存的集合；/n对所述保存的集合中的所述光谱进行变换以形成变换后的光谱的集合；/n将所述集合的至少两个光谱相互平均以形成平均光谱；以及/n基于所述平均光谱来估计所述脉冲光束的光谱特征。/n
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