[发明专利]包含Ni-P合金或Ni-Pt-P合金的溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201580016385.3 | 申请日： | 2015-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN106133185B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 大桥一允;小田国博 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F1/00;B22F3/14;B22F3/15;B22F9/08;C22C19/03;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种Ni‑P合金溅射靶的制造方法，其特征在于，将P含量为15重量％～21重量％、剩余部分包含Ni和不可避免的杂质的Ni‑P合金熔化，并进行雾化加工，从而制造平均粒径100μm以下的Ni‑P合金雾化加工粉，然后将纯Ni雾化粉与该Ni‑P合金雾化加工粉混合，并对其进行热压。本发明的课题在于提供一种与目标组成的偏离小的Ni‑P合金溅射靶的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 ni 合金 pt 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种Ni‑P合金溅射靶的制造方法，其特征在于，将含有15重量％～21重量％的P且剩余部分包含Ni和不可避免的杂质的Ni‑P合金熔化，并进行雾化加工，从而制造平均粒径100μm以下的Ni‑P合金雾化加工粉，然后将Ni雾化粉与该Ni‑P合金雾化加工粉混合，并对其进行热压。
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