[发明专利]太阳能电池的制造方法以及太阳能电池有效
申请号: | 201580011463.0 | 申请日: | 2015-03-04 |
公开(公告)号: | CN106062975B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 山林弘也;白柳裕介 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0224 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 肖靖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的特征在于,包括在n型硅基板(1)的一主面侧形成p型扩散层(2)并形成具有pn结的n型硅基板(1)的工序;在n型硅基板的第1主面以及第2主面中的作为n型的受光面1A侧的表面作为钝化膜形成氧化硅膜(5)与氮化硅膜的层叠膜的工序;在钝化膜形成开口区域(9)的工序;对钝化膜的开口区域(9)将钝化膜作为掩模来扩散n型杂质并形成高浓度扩散区域(11)的工序;以及在暴露于钝化膜的开口区域(9)的所述高浓度扩散区域(11)选择性地形成金属电极(13)的工序。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池的制造方法,包括如下工序:在第1导电类型的硅基板的一主面侧形成第2导电类型的半导体区域,形成具有pn结的硅基板;在所述硅基板的第1主面以及第2主面中的作为n型的所述第1主面侧的表面形成钝化膜;利用蚀刻膏在所述钝化膜形成开口区域;对于所述钝化膜的所述开口区域将所述钝化膜作为掩模来使n型杂质扩散,形成高浓度扩散区域;以及在暴露于所述钝化膜的所述开口区域的所述高浓度扩散区域选择性地形成集电电极,所述太阳能电池的制造方法的特征在于,在形成所述开口区域的工序之后、形成所述高浓度扩散区域的工序之前,包括对于所述钝化膜的所述开口区域将所述钝化膜作为掩模来蚀刻所述硅基板表面的一部分并形成进行纹理加工而得到的凹部的工序,形成所述高浓度扩散区域的工序是从通过所述蚀刻所形成的所述凹部在所述第1导电类型的硅基板或者所述第2导电类型的半导体区域中的构成n型的表面的区域形成以一定厚度延伸的高浓度扩散区域的工序,形成所述集电电极的工序是形成与所述高浓度扩散区域表面的所述凹部相抵接的所述集电电极的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580011463.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:壳积分器
- 下一篇:信息处理装置、信息处理方法和计算机程序
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的