[实用新型]基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置有效
| 申请号： | 201521123882.7 | 申请日： | 2015-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN205275697U | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 梁磊 | 申请（专利权）人： | 佛山市思博睿科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/02 | 分类号： | C23C16/02;C23C16/50;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;姚佳雯 |
| 地址： | 528226 广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供给氧气的氧气输送系统；向所述反应腔内交替地供给第一气体和第二气体的气体输送系统；产生微波并向所述反应腔内提供所述微波的微波发生系统；设置于所述反应腔与所述微波发生系统之间以在所述反应腔内产生等离子场从而电离所述反应腔内的各种气体以使各气体不同分子之间进行化学反应而生成纳米级膜层的微波电子回旋共振系统。本实用新型的装置可准确控制每层厚度、以及均匀度，增加膜层与基体粘合力。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 低压 等离子 化学 沉积 制备 纳米 多层 装置 | ||
【主权项】：
一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装置，其特征在于，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供给氧气的氧气输送系统；向所述反应腔内交替地供给第一气体和第二气体的气体输送系统；产生微波并向所述反应腔内提供所述微波的微波发生系统；设置于所述反应腔与所述微波发生系统之间以在所述反应腔内产生等离子场从而电离所述反应腔内的各种气体以使各气体不同分子之间进行化学反应而生成纳米级膜层的微波电子回旋共振系统。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
