[实用新型]一种用于处理基板的罩框和基板支撑组件

摘要

本实用新型涉及一种用于处理基板的罩框和一种基板支撑组件，所述罩框被设计成降低基板边缘区域上的高沉积速率。所述罩框可与无遮蔽结构式基板支撑件一起使用，并且可与气体限制器一起使用或者不与气体限制器一起使用。所述罩框包括基部和遮罩。所述遮罩可以具有低阻抗。所述遮罩的一部分可在处理期间在所述基板的下方延伸。虽然不受理论限制，但据信所述低阻抗遮罩通过降低基板支撑件的边缘处的阻抗失配来提高膜沉积均匀性。

主权项

一种用于处理基板的罩框，其特征在于，所述罩框包括：连续的基部，所述基部具有形成在基部中的连续的突出部分，所述突出部分从所述基部的内表面向外延伸，所述突出部分包括：第一表面，所述第一表面从所述基部的所述内表面而向外延伸小于所述基部的整个最大宽度的距离；以及第二表面，所述第二表面与所述第一表面相邻且位于所述第一表面外部，其中所述第二表面形成第一周缘；以及连续的遮罩，所述遮罩具有形成第二周缘的内表面，其中所述遮罩安置在所述突出部分的上方，并且其中所述遮罩具有小于约10mm的厚度；其中所述遮罩包含介电常数大于约3.6的玻璃或陶瓷材料；以及其中所述第二周缘小于所述第一周缘。