[实用新型]一种氮化镓基发光二极管有效
申请号: | 201520127109.1 | 申请日: | 2015-03-05 |
公开(公告)号: | CN204407349U | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 黄文宾;谢祥彬;林兓兓;张家宏 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04;H01L33/32 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型一种氮化镓基发光二极管结构,包括:衬底、缓冲层、未掺杂GaN层、第一N型GaN层、N型电子阻挡层、第二N型GaN层、量子阱发光层和P型GaN层,还包括位于第二N型GaN层上的N电极和位于P型GaN层上的P电极,其特征在于:所述N电极位于所述InGaN/GaN超晶格结构层形成的接触面上,InGaN/GaN超晶格结构层作为N型接触层,此外,超晶格结构层具有穿透效应,可以降低介于衬底和量子阱发光层之间的N型层的串联电阻值和N型层的接触电阻,使得LED器件的操作电压降低。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种氮化镓基发光二极管,包括:衬底、缓冲层、未掺杂GaN层、第一N型GaN层、N型电子阻挡层、第二N型GaN层、量子阱发光层和P型GaN层,还包括位于第二N型GaN层上的N电极和位于P型GaN层上的P电极,其特征在于:所述第二N型GaN层内部设有InGaN/GaN超晶格结构层,所述N电极位于所述InGaN/GaN超晶格结构层形成的接触面上,所述InGaN/GaN超晶格结构层作为N型接触层。
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