[实用新型]非接触式晶圆烘烤设备

摘要

一种非接触式晶圆烘烤设备，用以将一已进行一涂布工艺的晶圆进行加热，包含有一冷却工作站以及一烘烤工作站，所述冷却工作站包含有至少一第一浮力气孔以及至少一第一移动气孔，以分别提供一第一浮力气体以及一第一移动气体；所述烘烤工作站包含有至少一第二浮力气孔以及至少一第二移动气孔，以分别提供一第二浮力气体以及一第二移动气体。其中，所述晶圆分别受所述第一浮力气体与所述第二浮力气体提供的一上浮力道以及所述第一移动气体与所述第二移动气体提供的一侧向力道，而非接触地承载于所述冷却工作站及所述烘烤工作站上并进行移动。

主权项

一种非接触式晶圆烘烤设备，用以将一已进行一涂布工艺的晶圆进行加热，其特征在于，所述非接触式晶圆烘烤设备包含有：一冷却工作站，包含有一第一承载座、至少一设置于所述第一承载座并提供一第一浮力气体的第一浮力气孔、至少一设置于所述第一承载座并提供一第一移动气体的第一移动气孔、至少一设置于所述第一承载座并提供一冷却气体的冷却气孔以及一连接至所述第一浮力气孔、所述第一移动气孔以及所述冷却气孔的第一气体供应模块；一与所述冷却工作站并列设置的烘烤工作站，包含有一第二承载座、至少一设置于所述第二承载座并提供一第二浮力气体的第二浮力气孔、至少一设置于所述第二承载座并提供一第二移动气体的第二移动气孔、至少一设置于所述第二承载座并提供一加热气体的加热气孔以及一连接至所述第二浮力气孔、所述第二移动气孔以及所述加热气孔的第二气体供应模块；其中，所述晶圆受所述第一浮力气体与所述第二浮力气体提供的一上浮力道而非接触地承载于所述冷却工作站及所述烘烤工作站上，且受所述第一移动气体与所述第二移动气体提供的一侧向力道而于所述冷却工作站及所述烘烤工作站之间进行移动。