[发明专利]一种真空环境中使用的机械臂有效

专利信息
申请号: 201511015614.8 申请日: 2015-12-31
公开(公告)号: CN106926246B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 陶珩;王谦 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: B25J11/00 分类号: B25J11/00;B25J9/10
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 朱成之
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种真空环境中使用的机械臂,包括:一旋转平台,旋转平台上表面包括第一滑轨,一滑台设置在第一滑轨上可以沿第一滑轨滑动,一承载端固定到所述滑台上,所述承载端用于支撑基片或基片托盘,一个支撑基座支撑所述旋转平台,所述支撑基座上包括一个第一驱动轴用于驱动所述旋转平台转动,还包括一个第二驱动轴用以驱动所述滑台在滑轨上滑动。多个传动杆和旋转轴构成的的机械传动系统中包括一个辅助滑轨和滑块,可以在临界状态时强制驱动传动杆向设定方向运动。
搜索关键词: 旋转平台 滑轨 真空环境 支撑基座 承载端 传动杆 机械臂 驱动轴 滑台 机械传动系统 驱动 辅助滑轨 滑轨滑动 基片托盘 临界状态 强制驱动 支撑基片 滑动 上表面 旋转轴 滑块 转动 支撑
【主权项】:
1.一种真空环境中使用的机械臂,包括:一旋转平台,旋转平台上表面包括第一滑轨,一滑台设置在第一滑轨上可以沿第一滑轨滑动,一承载端固定到所述滑台上,所述承载端用于支撑基片或基片托盘,所述滑台位于滑轨的第一端时承载端处于收缩状态,所述滑台位于滑轨第二端时承载端处于向外伸展状态;一个支撑基座支撑所述旋转平台,所述支撑基座上包括一个第一驱动轴用于驱动所述旋转平台转动,还包括一个第二驱动轴用以驱动所述滑台在滑轨上滑动,其特征在于:所述支撑基座上包括第一和第二旋转轴,所述第二驱动轴用于驱动所述第一旋转轴转动,第一和第二传动杆的第一端分别连接到所述第一和第二旋转轴,第一和第二传动杆的第二端分别连接到第三和第四旋转轴,一个中间传动杆的两端连接在所述第三和第四旋转轴上,一个第三传动杆包括第一端连接到位于所述滑台上的第一滑台旋转轴,所述第三传动杆中间部分连接到所述第三传动轴,所述第三传动杆的第二端位于远离滑台方向延伸形成的延伸部上;所述中间传动杆上还包括一个第二滑轨和可在第二滑轨上移动的滑块,第三传动杆第二端通过一个第五旋转轴和第五传动杆与所述滑块相连接,第一传动杆中间包括一个第六旋转轴通过一第六传动杆与所述滑块相连接。
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