[发明专利]一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源有效
| 申请号： | 201510921731.4 | 申请日： | 2015-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN105655217B | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 孙雪平;袁卫华;彭立波;易文杰;张赛;钟新华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人： | 周长清 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源，包括弧室，作为等离子体生成弧室和阳极，弧室内导入含氟可电离气体；灯丝，作为热阴极灯丝并设置在弧室内，灯丝用来发射电子；氮化铝反射电极，设置在弧室内的一侧，作为铝离子生成源，在阳极与氮化铝反射极间施加来自于射频电源的电压；磁铁，安装在弧室内以产生磁场；引出电极，用来引出铝离子束流；偏压电源，设置在灯丝和弧室之间，电子在偏压电源生成的电场作用下飞向弧室，氟离子在电场作用下加速飞向灯丝。本发明具有结构简单紧凑、成本低廉、效率更高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射频 偏压 供电 磁控溅射 金属 离子源 | ||
【主权项】：
一种射频偏压供电的磁控溅射金属铝离子源，其特征在于，包括：弧室（1），作为等离子体生成弧室和阳极，所述弧室（1）内导入含氟可电离气体（7）；灯丝（2），作为热阴极灯丝并设置在所述弧室（1）内，所述灯丝（2）用来发射电子且与含氟可电离气体（7）的进气口相对布置；氮化铝反射电极（5），设置在所述弧室（1）内的一侧且相对所述灯丝（2）为侧置，作为铝离子生成源，在阳极与氮化铝反射电极（5）间施加来自于射频电源（10）的电压；磁铁（6），安装在所述弧室（1）外以产生磁场，所述磁场沿着连接灯丝（2）与对置送气入口的线；引出电极（8），用来引出铝离子束流；偏压电源（9），设置在所述灯丝（2）和弧室（1）之间，电子在所述偏压电源（9）生成的电场作用下飞向弧室（1），氟离子在电场作用下加速飞向灯丝（2）。
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