[发明专利]多温度范围基座、组件、包括该基座的反应器和系统、以及使用它们的方法

摘要

公开了一种基座组件、包括组件的反应器和系统、以及使用该组件、反应器和系统的方法。示例性基座组件包括两个或多个部分，该两个或多个部分可彼此相对地移动以允许衬底温度的快速改变。该两个或多个部分的移动可另外或可选地用于操控通过反应器的气流的传导性。

主权项

1.一种基座组件，包括：/n由第一材料形成的基座第一部分；/n由第二材料形成的基座第二部分；以及/n在反应室内相对于所述基座第二部分移动所述基座第一部分的机制，/n其中所述基座第一部分可相对于所述基座第二部分移动以向衬底提供可变的热量，/n所述反应室包括：第一流体路径，所述第一流体路径包括所述基座第一部分与反应室壁之间的空间；以及第二流体路径，其中所述反应室内的气体响应于所述基座第一部分处于第一位置而流过所述第一流体路径，并且其中所述反应室内的气体响应于所述基座第一部分处于第二位置而流过所述第二流体路径，其中所述空间响应于所述基座第一部分处于所述第二位置而受到限制，其中所述第一流体路径或所述第二流体路径中的至少一个与真空源流体连通。/n