[发明专利]一种研磨垫及其更换方法在审
| 申请号： | 201510703868.2 | 申请日： | 2015-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN105397617A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 吴科;文静;张传民 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种研磨垫及其更换方法，应用于包括研磨盘、研磨头和研磨垫修整器的研磨机台，所述研磨垫上表面包括若干个区域带，根据所述研磨头或者所述研磨垫修整器在所述研磨垫上表面扫描时的停留时间，将所述停留时间相同且相连的区域划分成一个区域带，根据不同区域带的磨损情况进行更换，从而可以达到节约成本及维持研磨率稳定的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 及其 更换 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，应用于包括研磨盘、研磨头和研磨垫修整器的研磨机台，其特征在于，所述研磨垫上表面设置有若干个区域带，并且每个所述区域带为将所述研磨头或者所述研磨垫修整器在所述研磨垫上表面扫描时的停留时间相同且相连的区域划分成的区域带。
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