[发明专利]取代金手指的线路板及其制造方法有效
申请号: | 201510702232.6 | 申请日: | 2015-10-23 |
公开(公告)号: | CN105386004B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 石林国;白耀文;胡斐 | 申请(专利权)人: | 衢州顺络电路板有限公司 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/02;C23C16/44 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 陆永强 |
地址: | 324000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种取代金手指的线路板及其制造方法。它解决了现有金手指线路板加工成本高的技术问题。包括以下步骤:A、将完成阻焊后的半成品线路板进行基体预处理;B、将完成预处理的半成品线路板置于真空反应炉中,通入反应气体进行气相沉积,在半成品线路板的插拔连接位上生成气相沉积薄膜层,从而制得成品线路板,气相沉积薄膜层为由氮化物或含氮化合物构成的单层结构;或者,气相沉积薄膜层为氮化物和/或含氮化合物构成的多层结构。优点在于:在线路板的插拔连接位上沉积功能薄膜层,相比较于金手指线路板其显著提高了产品的抗氧化、抗腐蚀性能和耐磨性能,使得产品应用可靠性更高,制造成本更低。 | ||
搜索关键词: | 代金 手指 线路板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种取代金手指的线路板制造方法,其特征在于,本方法包括以下步骤:A、将完成阻焊后的半成品线路板(1)进行基体预处理;B、将完成预处理的半成品线路板(1)置于真空反应炉中,通入反应气体进行气相沉积,从而在半成品线路板(1)的插拔连接位(11)上生成气相沉积薄膜层(2),从而制得成品线路板,所述的气相沉积薄膜层(2)为由氮化物或含氮化合物构成的单层结构;或者,所述的气相沉积薄膜层(2)为氮化物和/或含氮化合物构成的多层结构;在上述步骤B中,所述氮化物为TiNx、WNx与TaNx中的任意一种;所述的含氮化合物为TiWxNy、TiTaxNy、TaWxNy与TiWxTayNz中的任意一种;所述气相沉积薄膜层(2)中TiNx、WNx、TaNx的x为0.2‑5;所述气相沉积薄膜层(2)中TiWxNy、TiTaxNy、TaWxNy的x为0.5‑3,y为0.4‑10;所述气相沉积薄膜层(2)中TiWxTayNz的x为0.5‑3,y为0.5‑3,z为0.5‑10。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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