[发明专利]一种超高填充因子的太阳电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510694092.2 申请日: 2015-10-25
公开(公告)号: CN105390559A 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 王亮兴;陆明 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于太阳能光伏电池技术领域,具体为一种超高填充因子的太阳电池及其制备方法。本发明太阳电池的结构包括:上电极、界面层、PN结的发射层、PN结的基区、电池的钝化层、下电极;其中界面层材料的性质满足:界面层与发射层之间形成一个势垒;这个势垒方向与PN结方向相反;这个势垒高度最小为Eg-0.8eV,最大为Eg-0.4eV;形成这个势垒的材料向PN结区的扩散深度小于PN结的发射层厚度。界面层与PN结的发射层之间形成一个附加结。本发明改变了原来要求消除或降低太阳电池附加结势垒的思路,在PN结上形成反向串联的势垒高度适合的附加结,获得了超出太阳电池PN结理论最大值的填充因子,从而显著提高了电池转换效率。
搜索关键词: 一种 超高 填充 因子 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
 一种超高填充因子的阳电池,其特征在于结构组成:由下而上依次为上电极(1),界面层(2),PN结的发射层(3),PN结的基区(4),电池的钝化层(5),下电极(6) ;其中,界面层(2)的材料具有如下特点:(1)界面层与发射层之间形成一个势垒;(2)这个势垒方向与PN结方向相反;(3)这个势垒高度最小为Eg‑0.8eV,最大为Eg‑0.4eV,Eg为PN结材料的带隙;(4)形成这个势垒的材料向PN结区的扩散深度小于PN结的发射层厚度。
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