[发明专利]一种掩膜版、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201510622624.1 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN105116694B | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 齐鹏煜;查长军;王艳萍;汪栋;袁剑峰;邵喜斌;张焱;肖金涛;郭杨辰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版、曝光装置及曝光方法。所述掩膜版，包括基板以及设置在基板上的多个开口图形，在利用所述掩膜版对目标基板进行曝光时，基板上第一区域中的开口图形的光线透过量大于基板第二区域中的光线透过量，使得第一区域中多于第二区域的光线透过量能够对第二区域所对应的产品区域中的线宽进行补偿，令产品线宽的一致度大于设定值；所述第一区域和第二区域为基板上的两个区域。所述曝光装置包括本发明任意一项实施例所提供的掩膜版。本发明所提供的曝光方法，采用本发明任意一项实施例所提供的曝光装置对目标基板进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，包括基板以及设置在基板上的多个开口图形，其特征在于，在利用所述掩膜版对目标基板进行曝光时，基板上第一区域中的开口图形的光线透过量大于基板第二区域中的光线透过量，使得第一区域中多于第二区域的光线透过量能够对第二区域所对应的产品区域中的线宽进行补偿，令产品线宽的一致度大于设定值；所述第一区域和第二区域为基板上的两个区域；所述第一区域对应所述目标基板上显影液浓度低的位置，所述第二区域对应所述目标基板上显影液浓度高的位置。
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