[发明专利]化学机械研磨装置与方法

摘要

本发明公开一种化学机械研磨装置与方法。该化学机械研磨装置包括：研磨台、研磨垫、研磨头、调节器、研磨液供应装置以及分离器。研磨垫配置于研磨台上。研磨头与调节器配置于研磨垫上。分离器配置于研磨头与调节器之间。分离器的第一端靠近研磨垫的圆心，其第二端靠近研磨垫的圆周。分离器包括注入部与开口部。注入部靠近分离器的第一端，且与研磨液供应装置连接。开口部配置于注入部与研磨垫之间，用以涂布研磨液于研磨垫上。

主权项

1.一种化学机械研磨装置，包括：研磨垫，配置于一研磨台上，用以研磨晶片；研磨头，配置于该研磨垫上，用以承载该晶片使其与该研磨垫接触；调节器，配置于该研磨垫上，用以调节该研磨垫；研磨液供应装置，用以提供研磨液；以及分离器，配置于该研磨头与该调节器之间的该研磨垫上，其中该分离器的第一端靠近该研磨垫的圆心，该分离器的第二端靠近该研磨垫的圆周，该分离器包括：注入部，靠近该分离器的该第一端，且与该研磨液供应装置连接；以及开口部，配置于该注入部与该研磨垫之间，用以涂布该研磨液于该研磨垫上，其中，该研磨液通过该注入部注入该开口部中，以使该研磨液从该分离器的第一表面流出且分布在该研磨垫上，而该分离器的第二表面用于阻挡经研磨过的研磨液。