[发明专利]基于显著性直方图模型的粒子滤波跟踪方法有效

专利信息
申请号: 201510569439.0 申请日: 2015-09-09
公开(公告)号: CN105225250B 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 修春波;何慧尧 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: G06T7/277 分类号: G06T7/277
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于图像处理与目标跟踪领域,具体为一种基于显著性直方图模型的粒子滤波跟踪方法。通过对比目标与背景区中像素色调的分布,确定出不同色调等级的显著性权值,易于区分目标的色调具有较大的显著性权值,从而建立起目标的显著性直方图模型。并利用所建立的显著性直方图模型实现粒子滤波跟踪。本发明适用于运动目标跟踪系统中。
搜索关键词: 基于 显著 直方图 模型 粒子 滤波 跟踪 方法
【主权项】:
一种基于显著性直方图模型的粒子滤波跟踪方法,其特征在于,通过对比目标与背景区中像素色调的分布,确定出不同色调等级的显著性加权系数,易于区分目标的色调具有较大的显著性权值,从而建立起目标的显著性直方图模型,并利用所建立的显著性色调直方图模型实现粒子滤波跟踪;粒子滤波跟踪方法描述如下:Step1.参数初始化,时间t=0,手动选定初始目标区域,初始化粒子数为N,初始化状态分布每个粒子具有相同的权值,即第i个粒子的权值这样,粒子集可表示为目标中各像素的位置坐标为{(xi,yi)},i=1,2,...,s;色调特征值为b(xi,yi),色调特征划分为m个等级,利用式(1)建立目标的显著性直方图模型:qu′=Σi=1swu·δ[b(xi,yi)-u]---(1)]]>其中,wu为各色调等级显著性加权系数,δ为克罗内克函数;Step2.利用式(2)进行采样,得到新的粒子集St=1T0000010000001T00000100000010000001St-1+T22000T0000T22000T0000100001Wt---(2)]]>其中,St和St‑1分别为t时刻和t‑1时刻的目标的状态向量,T为系统的采样周期,Wt为多变量的高斯白噪声;Step3.更新粒子权值,设利用式(1)建立的目标模板显著性直方图为q′0={q′0u}u=1,2,...,m,第j个粒子所在目标候选区的显著性直方图为q′j={q′ju}u=1,2,...,m,二者的Bhattacharyya系数为:ρ[q0′,qj′]=Σu=1mq0u′qju′---(3)]]>二者的相似程度可表示为:d[q0′,qj′]=1-ρ[q0′,qj′]---(4)]]>d[q′0,q′j]的值越小,则模板与候选粒子区的相似度越大,该区域为跟踪目标的可能性就越大,粒子的观测似然函数设计为:p(zt|xt(j))=12πσexp(-d2[q0′,qj′]2σ2)---(5)]]>其中,σ为方差,粒子权重的递推公式为:ωt(j)=ωt-1(j)p(zt|xt(j))---(6)]]>归一化的权重结果为:ωt‾(j)=ωt(j)Σi=1Nωt(i)---(7)]]>Step4.重采样计算,计算如果Neff<Nth,则复制高权值的粒子而舍去低权值的粒子,得到N个新粒子,并置新粒子权值为1/N;否则不执行重采样;Step5.状态估计为:Step6.t=t+1,返回Step2。
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