[发明专利]电润湿显示下基板的制备方法有效
| 申请号： | 201510512530.9 | 申请日： | 2015-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN105044903B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 水玲玲;窦盈莹;金名亮;周国富 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 510631 广东省广州市大学城*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了电润湿显示下基板的制备方法，包括在疏水绝缘层表面进行图案化亲水改性，然后在亲水改性后的疏水绝缘层上形成像素墙的步骤，其中，图案化亲水改性的步骤包括制备第一模板，所述第一模板上设有与像素墙位置对应的凸起；在所述第一模板的凸起表面涂布或沾浸改性液，形成一层改性液膜；将具有改性液膜的第一模板的凸起与下基板的疏水绝缘层接触，并保留一定时间进行亲水改性。本发明采用模板压印法对疏水绝缘层表面进行局部改性，精度高，解决了传统的等离子改性、离子刻蚀等方法，精度不高（毫米级），偏差大，改性后的区域不能很好的和像素墙图案对应，影响器件质量的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 润湿 显示 下基板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种电润湿显示下基板的制备方法，包括在疏水绝缘层表面进行图案化亲水改性，然后在亲水改性后的疏水绝缘层上形成像素墙的步骤，其特征在于，所述在疏水绝缘层表面进行图案化亲水改性的步骤包括：制备第一模板，所述第一模板上设有与像素墙位置对应的凸起；在所述第一模板的凸起表面涂布或沾浸改性液，形成一层改性液膜；将具有改性液膜的第一模板的凸起与电润湿显示下基板的疏水绝缘层接触，并保留一定时间进行亲水改性。
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