[发明专利]光取向装置以及光取向方法

摘要

一种光取向装置以及光取向方法，在光取向处理中，进一步提高生产率，进一步提高质量。在两个工作台(21、22)上载置基板(S)，以使得通过由照射单元(1)照射偏振光的照射区域(R)的方式利用工作台移动机构(3)使两个工作台(21、22)交替地往复移动。控制工作台移动机构(3)的控制单元(4)在各工作台(21、22)通过照射区域(R)时维持慢的速度即恒定的设定通过速度，对于第一工作台(21)在第一基板搭载回收位置与照射区域(R)之间的移动以及第二工作台(22)在第二基板搭载回收位置与照射区域(R)之间的移动，使其以快的速度即设定搬运速度进行移动。

主权项

一种光取向装置，其特征在于，具备：照射单元，对所设定的照射区域照射在规定的方向偏振的偏振光；工作台，载置基板；以及工作台移动机构，通过使工作台以通过照射区域的方式移动而使偏振光照射至工作台上的基板，作为工作台设置有第一工作台、第二工作台这两个工作台，工作台移动机构使第一工作台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置移动至照射区域，并且使第二工作台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置移动至照射区域，工作台移动机构在第一工作台上的基板通过照射区域后使第一工作台朝一侧返回而使其位于第一基板回收位置，并且在第二工作台上的基板通过照射区域后使第二工作台朝另一侧返回而使其位于第二基板回收位置，在位于第一基板搭载位置或者第一基板回收位置的第一工作台与照射区域之间确保第二工作台上的基板通过照射区域的量以上的第一退避空间，在位于第二基板搭载位置或者第二基板回收位置的第二工作台与照射区域之间确保第一工作台上的基板通过照射区域的量以上的第二退避空间，设置有控制工作台移动机构的控制单元，在控制单元中，作为基板通过照射区域时的速度而设定有设定通过速度，控制单元针对第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第一基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，并且针对第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第二基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制，第一工作台、第二工作台在移动时对基板进行真空吸附而保持基板，控制单元在第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动中进行使移动的速度为每秒300mm以上600mm以下的控制。