[发明专利]光取向装置以及光取向方法在审

专利信息
申请号: 201510486339.1 申请日: 2015-08-10
公开(公告)号: CN105068322A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 石井一正 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐冰冰;刘杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 取向 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种光取向装置,其特征在于,具备:

照射单元,对所设定的照射区域照射在规定的方向偏振的偏振光;

工作台,载置基板;以及

工作台移动机构,通过使工作台以通过照射区域的方式移动而使偏振光照射至工作台上的基板,

作为工作台设置有第一工作台、第二工作台这两个工作台,

工作台移动机构使第一工作台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置移动至照射区域,并且使第二工作台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置移动至照射区域,

工作台移动机构在第一工作台上的基板通过照射区域后使第一工作台朝一侧返回而使其位于第一基板回收位置,并且在第二工作台上的基板通过照射区域后使第二工作台朝另一侧返回而使其位于第二基板回收位置,

在位于第一基板搭载位置或者第一基板回收位置的第一工作台与照射区域之间确保第二工作台上的基板通过照射区域的量以上的第一退避空间,在位于第二基板搭载位置或者第二基板回收位置的第二工作台与照射区域之间确保第一工作台上的基板通过照射区域的量以上的第二退避空间,

设置有控制工作台移动机构的控制单元,

在控制单元中,作为基板通过照射区域时的速度而设定有设定通过速度,

控制单元针对第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第一基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制,并且针对第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动以及从照射区域到第二基板回收位置的移动进行使该移动的速度比设定通过速度快的控制,

第一工作台、第二工作台在移动时对基板进行真空吸附而保持基板,

控制单元在第一工作台从第一基板搭载位置到照射区域的移动以及第二工作台从第二基板搭载位置到照射区域的移动中进行使移动的速度为每秒300mm以上600mm以下的控制。

2.根据权利要求1所述的光取向装置,其特征在于,

上述设定通过速度被设定为恒定的速度,

上述控制单元进行如下的控制:在从上述第一基板搭载位置到上述照射区域的去路移动中,在上述第一工作台上的基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域之前使上述第一工作台的速度减速至上述设定通过速度,在从该基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域开始直至移动方向后方边缘通过上述照射区域为止的期间维持上述设定通过速度,在该基板的移动方向后方边缘通过上述照射区域后进行减速以便朝上述一侧返回,

上述控制单元进行如下的控制:在从上述第二基板搭载位置到上述照射区域的去路移动中,在上述第二工作台上的基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域之前使上述第二工作台的速度减速至上述设定通过速度,在从该基板的移动方向前方边缘到达上述照射区域开始直至移动方向后方边缘通过上述照射区域为止的期间维持上述设定通过速度,在该基板的移动方向后方边缘通过上述照射区域后进行减速以便朝上述另一侧返回。

3.根据权利要求2所述的光取向装置,其特征在于,

上述照射单元在上述第一工作台、第二工作台进行去路移动时和归路移动时的双方对上述各工作台上的基板照射偏振光,

在上述控制单元中,上述第一工作台进行去路移动时的设定通过速度和上述第一工作台进行归路移动时的设定通过速度被设定为相同的速度,上述第二工作台进行去路移动时的设定通过速度和上述第二工作台进行归路移动时的设定通过速度被设定为相同的速度。

4.根据权利要求3所述的光取向装置,其特征在于,

在上述控制单元中设定有:上述第一工作台在通过照射区域后为了朝一侧返回而掉头的位置即第一掉头位置,和上述第二工作台在通过照射区域后为了朝另一侧返回而掉头的位置即第二掉头位置,

在上述控制单元中,上述第一工作台在通过上述照射区域后到达第一掉头位置时的减速和上述第一工作台在第一掉头位置掉头而到达上述照射区域时的加速被设定为相同的斜度,

在上述控制单元中,上述第二工作台在通过上述照射区域后到达第二掉头位置时的减速和上述第二工作台在第二掉头位置掉头而到达上述照射区域时的加速被设定为相同的斜度。

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