[发明专利]具有纹理化前表面和/或背表面的薄膜半导体光电器件在审

专利信息
申请号: 201510475349.5 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105336797A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 丁逸康;布兰登·M·卡耶斯;罗斯·特威斯特;西尔维亚·斯普尤特;刘峰;雷格·东克;美利莎·J·艾契尔;何甘 申请(专利权)人: 奥塔装置公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及具有纹理化前表面和/或背表面的薄膜半导体光电器件。公开一种用于提供在光电器件中的纹理化层的方法。方法包括将模板层沉积在第一层上。模板层在厚度上或在组成上或在两者上具有明显的不均匀性,包括形成一个或多个岛状物以提供岛状物层的至少一个纹理化表面的可能性。方法还包括将模板层和第一层暴露于蚀刻工艺以产生或改变至少一个纹理化表面。改变的至少一个纹理化表面在操作中引起光散射。
搜索关键词: 具有 纹理 表面 薄膜 半导体 光电 器件
【主权项】:
1.一种用于提供光电器件中的纹理化层的方法,所述方法包括:在平面半导体层上外延生长岛状物的模板层,其中所述模板层在厚度上具有明显的不均匀性;以及将所述模板层和所述平面半导体层暴露于蚀刻工艺以使用所述模板层作为蚀刻掩模在所述平面半导体层中产生至少一个纹理化表面,其中所述至少一个纹理化表面是所述光电器件的部分。
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