[发明专利]一种多晶硅薄膜的质量检测方法和系统有效
| 申请号： | 201510408380.7 | 申请日： | 2015-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN105092473B | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 叶昱均;唐丽娟;李勇;王志刚;李子健 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;C30B29/06 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种多晶硅薄膜的质量检测方法和系统。本发明的质量检测，具体包括：向表面上形成有多晶硅薄膜的基板照射光，并对所述多晶硅薄膜进行拍摄，以获得薄膜图像；按照设定的尺寸将所述薄膜图像分割成多个图像单元；获取所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数，并将所述显示参数与预设参数进行对比，以获取对比结果；根据各所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数与所述预设参数的对比结果获取合格的所述图像单元的数量；根据合格的所述图像单元的数量和所述图像单元的总数量确定所述多晶硅薄膜的质量；本发明的质量检测方法与现有质量检测方法相比，提高了质量检测的准确性和效率，从而降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 薄膜 质量 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种多晶硅薄膜的质量检测方法，其特征在于，包括如下步骤：向表面上形成有经过准分子激光退火后的多晶硅薄膜的基板照射光，并对所述多晶硅薄膜进行拍摄，以获得薄膜图像，其中，在同一个方向对所述多晶硅薄膜进行照射光和拍摄；在与表面上形成有多晶硅薄膜的基板呈5度到45度角的方向上向所述基板照射光；在与所述基板呈5度到45度角的方向上对所述多晶硅薄膜进行拍摄；按照设定的尺寸将所述薄膜图像分割成多个图像单元；获取所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数，并将所述显示参数与预设参数进行对比，以获取对比结果，其中所述显示参数包括亮度灰阶和/或线条宽长度分布；根据各所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数与所述预设参数的对比结果获取合格的所述图像单元的数量；根据合格的所述图像单元的数量和所述图像单元的总数量确定所述多晶硅薄膜的质量，所述根据合格的所述图像单元的数量和所述图像单元的总数量确定所述多晶硅薄膜的质量的步骤包括：将合格的所述图像单元的数量与预设数量进行比较，所述预设数量为根据所述图像单元的总数量设定的数量；当合格的所述图像单元的数量大于或等于预设数量时，确定所述多晶硅薄膜的质量为合格。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510408380.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
