[发明专利]沉积用掩模制造方法

摘要

本发明的实施方式公开沉积用掩模制造方法，该方法包括：将光致抗蚀剂层涂覆到衬底的一面并经过曝光及显影工艺以在衬底的一面形成光致抗蚀剂图案的步骤；对通过光致抗蚀剂图案暴露的所述衬底进行湿法蚀刻(wet etching)以在衬底的一面形成多个图案槽的步骤；以及对衬底中作为一面的相反侧的另一面进行切削以使多个图案槽贯通衬底进而形成多个图案孔的步骤。

主权项

1.一种沉积用掩模制造方法，包括以下步骤：将光致抗蚀剂层涂覆到衬底的一面并经过曝光工艺和显影工艺在所述衬底的所述一面形成光致抗蚀剂图案；对通过所述光致抗蚀剂图案暴露的所述衬底进行湿法蚀刻以在所述衬底的所述一面形成多个图案槽；以及对所述衬底中作为所述一面的相反侧的另一面进行切削以使所述多个图案槽贯通所述衬底进而形成多个图案孔，其中，在形成所述多个图案孔的步骤中，所述图案孔形成为从所述衬底的所述一面至所述衬底的所述另一面逐渐变窄。