[发明专利]蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法在审
| 申请号： | 201510379638.5 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN105297015A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 张颖玲;胡春光 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物包括金属层氧化剂；包括下列化学式1表示的单元的螯合化合物；以及水，其中，通过下式1限定的所述蚀刻液组合物的醚值(D)为0.2≤D≤2；以及，一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法：[化学式1]R1-O-R2[式1]醚值(D)＝(A/B)×C×1,000。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 使用 制造 液晶显示 器用 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；包括下列化学式1表示的单元的螯合化合物；以及水，其中，通过下式1限定的所述蚀刻液组合物的醚值(D)为0.2≤D≤2；[化学式1]R1‑O‑R2其中，R1和R2各自独立地为氢或C1～C4烃基，并且R1和R2不同时为氢；[式1]醚值(D)＝(A/B)×C×1,000其中，A为100g所述蚀刻液组合物中含有的所述螯合化合物的质量；B为所述螯合化合物的分子量；以及C为在所述螯合化合物的一个分子中含有的所述化学式1的单元的数目。
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