[发明专利]一种CIGS基薄膜太阳能电池及其制造方法有效
申请号: | 201510362598.3 | 申请日: | 2015-06-26 |
公开(公告)号: | CN105140320B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 李艺明;田宏波;邓国云 | 申请(专利权)人: | 厦门神科太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司35204 | 代理人: | 张松亭 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种用于形成CIGS基薄膜太阳能电池的方法,包括基板,在基板上沉积金属背电极层,接着对金属背电极层进行P1刻划,接着沉积一层MoSx(0<x≤2)或Mo(S1‑xSex)y(0<x<1,0<y≤2)薄膜层,接着在其上形成光吸收层,在光吸收层上沉积缓冲层,在缓冲层上沉积透明导电窗口层。通过在形成光吸收层之前先沉积一层MoSx(0<x≤2)或Mo(S1‑xSex)y(0<x<1,0<y≤2)薄膜层,可有效降低电池内部的分流作用,提高电池的并联电阻和填充因子。 | ||
搜索关键词: | 一种 cigs 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于形成CIGS基薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,所述方法依次包括:提供一基板;形成覆盖所述基板的背电极层;接着进行P1刻划;接着采用真空沉积法形成覆盖所述背电极层的MoSx其中0<x≤2的薄膜层,或Mo(S1‐xSex)y其中0<x<1,0<y≤2的薄膜层,所述的MoSx或Mo(S1‐xSex)y薄膜层的厚度不超过150nm;形成覆盖所述MoSx或Mo(S1‐xSex)y薄膜层的光吸收层;形成覆盖所述光吸收层的缓冲层;形成覆盖所述缓冲层的具有高电阻率的氧化锌膜层,所述具有高电阻率的氧化锌膜层为本征氧化锌膜层、具有高电阻率的掺杂氧化锌膜层或它们的组合,所述具有高电阻率的掺杂氧化锌膜层电阻率不小于0.08Ωcm,同时不大于95Ωcm;接着进行P2刻划;形成覆盖所述具有高电阻率的氧化锌膜层的透明导电窗口层;最后进行P3刻划,以便形成由多个单元电池串联而成的电池组件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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