[发明专利]一种透射型光学基板中结构性缺陷初始损伤特征判定方法有效
| 申请号： | 201510344597.6 | 申请日： | 2015-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN105021631B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 马彬;陆梦蕾;王可;程鑫彬;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G01N21/896 | 分类号： | G01N21/896 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种透射型光学基板中结构性缺陷初始损伤特征判定方法，包括基于泵浦探测技术，建立亚微米空间分辨和纳秒时间分辨的双光束成像系统；制备出具有不同尺寸结构性缺陷的透射型光学基板；获得透射型光学基板同一位置在不同时间的两张图像，比较两张图像上初始损伤的尺寸和轮廓特征的差异，建立不同尺寸结构性缺陷的初始损伤特征；对实际光学基板进行缺陷检测，采用所述双光束成像系统拍摄其损伤行为，并与建立的不同尺寸结构性缺陷初始损伤特征进行比对，实现对透射型光学基板损伤的结构性缺陷的诊断和判定。与现有技术相比，本发明具有对结构性缺陷初始损伤尺寸、生长速率、扩展方向和损伤阈值等信息进行分析的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 光学 基板中 结构性 缺陷 初始 损伤 特征 判定 方法 | ||
【主权项】：
一种透射型光学基板中结构性缺陷初始损伤特征判定方法，用于透射型光学基板中结构性缺陷的检测和判定，其特征在于，该方法包括：1)基于泵浦探测技术，建立亚微米空间分辨和纳秒时间分辨的双光束成像系统；2)利用压痕仪，在透射型光学基板上压制裂纹，并利用磁流变抛光、仅留下内部裂纹缺陷，制备出具有不同尺寸结构性缺陷的透射型光学基板；3)采用所述双光束成像系统获得透射型光学基板同一位置在不同时间的两张图像，根据两张图像中初始损伤的尺寸差异与延迟时间计算损伤的生长速率，根据两张图像中初始损伤的生长方向与光学基板表面夹角明确扩展方向，由此建立不同尺寸结构性缺陷的初始损伤特征；4)对实际光学基板进行缺陷检测，采用所述双光束成像系统拍摄其损伤行为，并与建立的不同尺寸结构性缺陷初始损伤特征进行比对，实现对透射型光学基板损伤的结构性缺陷的诊断和判定。
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