[发明专利]双喷头MOCVD反应室

摘要

本发明公开了一种金属有机气象化学沉积反应室，所述反应室包括腔体，所述腔体包括顶板、底板和侧壁，所述顶板底板和侧壁围成基本封闭的腔室；上进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的上部与气源连通；下进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的下部与气源连通；托盘组件，固定设置在所述反应腔体内的中部，所述托盘组件包括上基底托盘和下基底托盘，所述上基底托盘和下基底托盘相背对设置，所述上基底托盘与所述上进气喷淋头相对；所述下基底托盘与所述下进气喷淋头相对；加热器，位于上基底托盘和下基底托盘之间。通过这种反应室能够有效提高空间利用率、气体利用率及热能的利用率。

主权项

一种金属有机气象化学沉积反应室，其特征在于，所述反应室包括：腔体，所述腔体包括顶板、底板和侧壁，所述顶板底板和侧壁围成基本封闭的腔室；上进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的上部与气源连通；下进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的下部与气源连通；所述上进气喷淋头和下进气喷淋头共用气源，在所述上进气喷淋头和所述下进气喷淋头内实现混气、匀气；托盘组件，位于所述反应腔体内的中部；所述托盘组件包括上基底托盘和下基底托盘，所述上基底托盘和下基底托盘相背对上下对称设置，所述上基底托盘与所述上进气喷淋头相对；所述下基底托盘与所述下进气喷淋头相对；所述托盘组件还包括设置旋转装置，所述旋转装置与所述上基底托盘和下基底托盘驱动连接；加热器，位于上基底托盘和下基底托盘之间，加热体与所述上基底托盘和下基底托盘之间的距离相等；在反应室腔体侧壁分别设有相互独立的上尾气排气口和下尾气排气口，所述上尾气排气口与上基底托盘的侧部相对；所述下尾气排气口与所述下基底托盘相对。