[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供基板处理装置，能稳定支承大型化了的支架并能防止因支架大型化导致闸室的大容量化，缩短闸室的气氛的切换时间。该基板处理装置包括处理基板的处理室；收容基板的闸室；在处理室和闸室之间输送基板的输送室；设置在处理室中，分别保持不同基板的两个支架；支架移动机构，使两个支架在基板接收位置和基板处理位置之间移动，在基板接收位置使两个支架处于上下排列的状态；及基板输送机构，将收容于闸室中的基板以上下排列的状态统一输送到位于基板接收位置的两个支架上。此外，支架移动机构具备两个移动支架的线性运动机构、以及使两个支架转动的转动机构。此外，线性运动机构在比支架的移动方向上的两端更靠内侧的位置支承支架。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置包括：处理室，在该处理室中在真空气氛下处理基板；闸室，收容所述基板，被切换为大气气氛或真空气氛；输送室，设置在所述处理室和所述闸室之间，在真空气氛下在所述处理室和所述闸室之间输送所述基板；两个支架，设置在所述处理室中，分别保持基板；支架移动机构，至少使所述两个支架在接收从所述输送室输送来的所述基板的接收位置与处理所述基板的处理位置之间移动，并且在所述接收位置使所述两个支架成为上下排列的状态；以及基板输送机构，设置在所述输送室中，将收容在所述闸室中的所述基板以上下排列的状态统一输送到位于所述接收位置的所述两个支架，所述支架移动机构包括：线性运动机构，使所述两个支架分别沿按各个支架设定在规定的轴向上的彼此不同的移动路径移动；以及转动机构，使所述两个支架绕所述规定的轴向转动，所述线性运动机构在比所述支架的所述规定的轴向上的两端更靠内侧的位置支承所述支架。