[发明专利]一种制备连续面形螺旋相位板的方法

摘要

本发明公开了一种制备连续面形螺旋相位板的方法，涉及微细加工，自旋光学等领域。本发明针对现有的技术在制备螺旋相位板时，存在制备效率低，成本高等缺点，提出一种新型的连续面形螺旋相位板制备的方法。该方法通过对目标面形进行量化组合而形成掩模结构，利用该掩模结构实现对曝光量的调制，进而可以利用单次曝光实现连续面形螺旋相位板的制备，是一种成本低，效率高，实用并具有较大应用前景的新方法。

主权项

一种制备连续面形螺旋相位板的方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：步骤(1)、根据目标面形进行掩模设计，具体为：假设该螺旋相位板的三维面形函数为f(x,y)，其口径大小为D，选择抽样间隔d来对其进行量化，将该三维结构在某一方向上量化成N个等间隔的条形子区域，可以表达为f_i(x,y),i＝1，2……N，将每个条形子区域等比例投影到其抽样位置处的间隔内，此时其函数可以表达为i＝1,2......N,其中C为常数，表示出了投影缩放时的比例，那么可以获得每个区域的子掩模函数可以表达为M_i(x,y)，其中，当(i‑1)·d<y<(i‑1)·d‑f_i(x)时，M_i(x,y)＝1，对应的是子掩模中不透光区，其余部分M_i(x,y)＝0，对应的是子掩模中的透光区，将所有的子掩模进行组合，即可获得总掩模图形M(x,y)；步骤(2)、利用该掩模板对基片上涂覆的抗蚀剂进行曝光；步骤(3)、将曝光后的抗蚀剂进行显影，后烘，获得抗蚀剂上的面形结构；步骤(4)、采用刻蚀技术将抗蚀剂上的结构传递到所需要的基片材料上。