[发明专利]制作薄膜晶体管的掩模板及用该掩模板制作的薄膜晶体管在审

申请号：	201510187534.4	申请日：	2015-04-20
公开（公告）号：	CN104793461A	公开（公告）日：	2015-07-22
发明（设计）人：	高冬子	申请（专利权）人：	深圳市华星光电技术有限公司
主分类号：	G03F1/54	分类号：	G03F1/54;H01L21/336;H01L29/786
代理公司：	深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304	代理人：	孙伟峰;武岑飞
地址：	518132 广东***	国省代码：	广东;44
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摘要：	本发明公开一种制作薄膜晶体管的掩模板，所述掩模板包括弯折部(10)以及分别位于所述弯折部(10)两侧的直道部(20)，所述弯折部(10)与所述直道部(20)之间的第一缝隙(12)被设置为半透光，所述直道部(20)内部的第二缝隙(22)被设置为全透光。相较于现有技术，由于本发明的掩模板的第一缝隙被设置为半透光，且第一缝隙的宽度增大，由此在制作薄膜晶体管时，可以提高弯折部处的第一缝隙的光线穿过率来避免薄膜晶体管的沟道的弯折区域中出现的源漏极短路等不良问题，同时可以更精确地图案化薄膜晶体管的沟道结构。
搜索关键词：	制作薄膜晶体管模板
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【主权项】：

一种制作薄膜晶体管的掩模板，所述掩模板包括弯折部(10)以及分别位于所述弯折部(10)两侧的直道部(20)，其特征在于，所述弯折部(10)与所述直道部(20)之间的第一缝隙(12)被设置为半透光，所述直道部(20)内部的第二缝隙(22)被设置为全透光。

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