[发明专利]一种高耐弯折透明导电膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201510095663.0 | 申请日： | 2015-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104766646A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 沈湘黔;李旻;景茂祥;陈翠玉 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B1/02;H01B13/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及透明导电膜制备技术领域，尤其涉及一种高耐弯折透明导电膜及其制备方法。本发明提供的柔性透明导电膜由超细银纳米线和柔性基底组成。将大长径比、超细银纳米线通过过滤、转印、二次压制等步骤，转移到柔性基底上制备出柔性透明导电膜，其可见光透过率T>90%，方块电阻Rs<50Ω/sq，耐弯折次数达40000次以上。本发明工艺、设备简单，不需要对基底进行预处理，不需要额外添加有机溶剂，成本低，且导电网络厚度易控制，容易实现规模化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高耐弯折 透明 导电 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高耐弯折透明导电膜，其特征在于：所述高耐弯折透明导电膜由柔性透明薄膜基底和超细银纳米线导电层组成，其耐弯折次数达4万次以上，可见光透过率T>90%，方块电阻Rs<50 Ω/sq。
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