[发明专利]一种高耐弯折透明导电膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高耐弯折透明导电膜，其特征在于：所述高耐弯折透明导电膜由柔性透明薄膜基底和超细银纳米线导电层组成，其耐弯折次数达4万次以上，可见光透过率T>90%，方块电阻Rs<50 Ω/sq。

2.如权利要求1所述的一种高耐弯折透明导电膜，其特征在于：所述超细银纳米线导电层中，银纳米线平均直径为20~60 nm，长度为10~50 μm，导电层中银纳米线紧密搭接构成均匀的二维导电网络，导电层厚度为40~60 nm。

3.如权利要求1所述的一种高耐弯折透明导电膜，其特征在于：所述的柔性透明薄膜基底为厚度100~500μm，透光率大于95%的有机聚合物中的任一种。

4.如权利要求1所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于步骤如下：

（1）将平均直径20~60nm, 长度为10~50 μm的银纳米线配制成悬浮液，通过加入银纳米线的量有效的控制导电膜层的厚度，取悬浮液加入无水乙醇稀释、搅拌均匀后，用砂芯过滤装置抽滤，在有机过滤膜上形成一层均匀的银纳米线膜层；

（2）将银纳米线膜层覆盖到柔性透明塑料基底上，对它施加一定的机械压力后，轻轻撕开有机过滤膜，即得到平整、均匀的银纳米线/聚合物复合导电膜；

（3）对复合导电膜施加二次压制处理，得到高耐弯折透明导电膜。

5.如权利要求4所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）中所述的银纳米线悬浮液的质量体积浓度为0.1~0.25 mg/mL，溶剂为无水乙醇溶液。

6.如权利要求4所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）中所述银纳米线悬浮液加入无水乙醇稀释，银纳米线悬浮液与无水乙醇的体积比为：0.007-0.15:1。

7.如权利要求4所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于：步骤（2）中对透明导电膜所施加的机械压力是通过压片机或辊压机来实现，压力范围为0.5~5 MPa。

8.如权利要求4所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，为实现更佳的导电性和粘附性，二次压制处理所施加的压力范围为2~10 MPa。

9.如权利要求4所述的一种高耐弯折透明导电膜的制备方法，其特征在于：步骤（2）和（3）中，施加压力的时间应保持在15~20 s。