[发明专利]真空炉以及连续式真空炉在审
| 申请号： | 201510076906.6 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN104651587A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 戴长虹 | 申请（专利权）人： | 戴长虹 |
| 主分类号： | C21D1/773 | 分类号： | C21D1/773;C21D9/00 |
| 代理公司： | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人： | 何凌;陈华 |
| 地址： | 266033 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种真空炉，包括：炉体，用于对真空腔进行真空处理的真空系统，和用于控制各真空腔内温度和/或真空度的控制系统；所述炉体包括设置在最外层的外腔，以及依次设置在外腔内部的一个以上的内腔。本发明实施例还提供了一种具有独立的双腔或多腔结构的连续式真空炉。本发明的真空炉和连续式真空炉采用独立的双腔或多腔结构，使各真空腔的气压逐渐变化，解决了单一真空腔因内外压差巨大而带来的密封困难，导致真空炉制作难度大、制作成本高等问题，特别适合于制造高真空、超高真空的真空炉。 | ||
| 搜索关键词： | 真空炉 以及 连续 | ||
【主权项】：
一种真空炉，包括：炉体，用于对真空腔进行真空处理的真空系统，其特征在于，所述炉体包括设置在最外层的外腔，以及依次设置在外腔内部的一个以上的内腔。
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