[发明专利]真空炉以及连续式真空炉

权利要求书

1.一种真空炉，包括：炉体，用于对真空腔进行真空处理的真空系统，其特征在于，

所述炉体包括设置在最外层的外腔，以及依次设置在外腔内部的一个以上的内腔。

2.如权利要求1所述的真空炉，其特征在于，

外腔和内腔相互独立；

外腔及每个内腔的气压不同，从内到外气压依次升高；

所述真空系统包括多个真空机组，所述外腔和内腔分别通过真空管与各自的真空机组连通，达到设定的真空度或气压。

3.如权利要求1所述的真空炉，其特征在于，所述内腔内设置有加热体。

4.如权利要求1所述的真空炉，其特征在于，所述内腔内还设置有一至数层隔热屏。

5.一种连续式真空炉，包括：

上料台、真空预抽室、真空加热室、真空预冷室、冷却室和下料台，用于对真空室进行真空处理的真空系统、和用于传送物料的传动系统；

所述真空加热室包括设置在最外层的外腔及依次设置在外腔内部的一个以上的内腔。

6.如权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，外腔和内腔相互独立，外腔及 每个内腔的气压不同，从内到外气压依次升高；

真空系统包括多个真空机组，每个真空机组通过真空管与相应的真空腔连通；外腔和内腔分别通过各自的真空机组达到设定的真空度或气压。

7.如权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述连续式真空炉还包括真空加压室，所述真空加压室包括设置在最外层的外腔及依次设置在外腔内部的一个以上的内腔，外腔和内腔相互独立，外腔及每个内腔的气压不同，从内到外气压依次升高。

8.如权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述连续式真空炉的真空室腔体内侧设置有加热体。

9.如权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述真空预抽室和预冷室可以是一至数个。

10.如权利要求5或7所述的真空炉，其特征在于，所述内腔还设置有一至数层隔热屏。