[发明专利]掩模框架组件及其制造方法有效
| 申请号： | 201510067687.5 | 申请日： | 2015-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN104846328B | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 郑盛祐;姜泽敎 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施方式公开了掩模框架组件及其制造方法。该掩模框架组件包括在一个方向上拉伸并接合到框架的掩模，并且大小沿一个方向逐渐变化的辅助孔形成于围绕该掩模的图案区域的肋区域。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模框架组件，包括：框架；以及掩模，在一个方向上拉伸并接合到所述框架，其中，所述掩模包括形成有图案孔的图案区域以及围绕所述图案区域并且以相对更厚的厚度形成的肋区域，并且其中，所述肋区域中形成有大小沿所述一个方向逐渐变化的辅助孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510067687.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种使用激光直写制备微电路的方法
- 下一篇：船用曲轴的离子氮化工具
- 同类专利
- 专利分类
