[发明专利]掩模框架组件及其制造方法

说明书

本发明的实施方式公开了掩模框架组件及其制造方法。该掩模框架组件包括在一个方向上拉伸并接合到框架的掩模，并且大小沿一个方向逐渐变化的辅助孔形成于围绕该掩模的图案区域的肋区域。

技术领域

本发明涉及在薄膜的沉积中所使用的掩模框架组件及其制造方法。

背景技术

通常，有机发光显示装置作为能够通过使注入到阳极和阴极的空穴和电子在发光层中复合而发光的原理来实现图像的显示装置，其具有在阳极与阴极之间插入有发光层的叠层结构。然而，由于通过上述结构很难获得高效率的发光，因此会选择性地附加电子注入层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层等作为所述两个电极之间的中间层来与所述发光层一同使用。

另外，有机发光显示装置的电极和中间层可以通过多种方法形成，而沉积法为其中的一种方法。当使用沉积法制造有机发光显示装置时，将具有与待被形成的薄膜图案相同的图案的掩模框架组件对齐到衬底上，并通过该掩模框架组件将薄膜的原料沉积到衬底上，以形成期望的图案的薄膜。

发明内容

本发明的实施方式提供掩模框架组件及其制造方法。

本发明的实施方式提供了掩模框架组件，该掩模框架组件包括框架和在一个方向上拉伸并接合到所述框架的掩模，其中，所述掩模包括形成有图案孔的图案区域和围绕所述图案区域并且以相对更厚的厚度形成的肋区域，并且所述肋区域中形成有大小沿所述一个方向逐渐变化的辅助孔。

所述图案区域可以包括形成有沉积用图案孔的沉积区域和形成有虚拟用图案孔的虚拟区域。

所述掩模上可以交替地形成有多个所述沉积区域和多个所述虚拟区域。

所述辅助孔可以形成在每个所述沉积区域与所述虚拟区域之间。

所述辅助孔可以随着沿所述一个方向远离所述沉积区域和所述虚拟区域而大小逐渐变小。

不具有任何辅助孔的无孔部间隔可以设置在相邻于所述沉积区域的辅助孔与相邻于所述虚拟区域的辅助孔之间。

相邻于所述沉积区域的辅助孔和相邻于所述虚拟区域的辅助孔可以以两者之间不具有无孔部间隔的方式连续相连地形成。

在位于所述掩模的两端部的所述图案区域外侧可以形成有所述辅助孔。

所述辅助孔可以随着沿所述一个方向远离所述图案区域而大小逐渐变小。

所述虚拟用图案孔也可以沿所述一个方向大小逐渐变化。

此外，根据本发明的实施方式提供掩模框架组件的制造方法，该方法包括将具有图案孔的图案区域和围绕所述图案区域的肋区域形成在掩模上，其中，所述肋区域包括大小沿一个方向逐渐变化的辅助孔；以及沿所述一个方向对所述掩模进行拉伸并将其接合到框架上。

在形成所述图案区域时，可以形成沉积区域和虚拟区域，其中所述沉积区域中形成有沉积用图案孔，所述虚拟区域中形成有虚拟用图案孔。

所述掩模上可以交替地形成有多个所述沉积区域和多个所述虚拟区域。

所述辅助孔可以形成在每个所述沉积区域与所述虚拟区域之间。

所述辅助孔可以形成为大小随着沿所述一个方向远离所述沉积区域和所述虚拟区域而逐渐变小。

不具有任何辅助孔的无孔部间隔可以设置在相邻于所述沉积区域的辅助孔与相邻于所述虚拟区域的辅助孔之间。

相邻于所述沉积区域的辅助孔和相邻于所述虚拟区域的辅助孔可以以两者之间不具有无孔部间隔的方式连续相连地形成。

位于所述掩模的两端部的所述图案区域外侧可以形成有所述辅助孔。