[发明专利]掩模框架组件及其制造方法

权利要求书

1.一种掩模框架组件，包括：

框架；以及

掩模，在一个方向上拉伸并接合到所述框架，

其中，所述掩模包括形成有图案孔的图案区域以及围绕所述图案区域并且以相对更厚的厚度形成的肋区域，并且

其中，所述肋区域中形成有大小沿所述一个方向逐渐变化的辅助孔。

2.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述图案区域包括：

沉积区域，形成有沉积用图案孔；以及

虚拟区域，形成有虚拟用图案孔。

3.如权利要求2所述的掩模框架组件，其中，所述掩模上交替地形成有多个所述沉积区域和多个所述虚拟区域。

4.如权利要求3所述的掩模框架组件，其中，所述辅助孔形成在每个所述沉积区域与所述虚拟区域之间。

5.如权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述辅助孔随着沿所述一个方向远离所述沉积区域和所述虚拟区域而大小逐渐变小。

6.如权利要求5所述的掩模框架组件，其中，不具有任何辅助孔的无孔部间隔设置在相邻于所述沉积区域的辅助孔与相邻于所述虚拟区域的辅助孔之间。

7.如权利要求5所述的掩模框架组件，其中，相邻于所述沉积区域的辅助孔和相邻于所述虚拟区域的辅助孔以二者之间不具有无孔部间隔的方式连续相接地形成。

8.如权利要求3所述的掩模框架组件，其中，在位于所述掩模的两端部的所述图案区域外侧形成有所述辅助孔。

9.如权利要求8所述的掩模框架组件，其中，所述辅助孔随着沿所述一个方向远离所述图案区域而大小逐渐变小。

10.如权利要求2所述的掩模框架组件，其中，所述虚拟用图案孔也沿所述一个方向大小逐渐变化。

11.一种掩模框架组件的制造方法，包括以下步骤：

将具有图案孔的图案区域和围绕所述图案区域的肋区域形成在掩模上，其中，所述肋区域包括大小沿一个方向逐渐变化的辅助孔；以及

沿所述一个方向对所述掩模进行拉伸并将其接合到框架上。

12.如权利要求11所述的掩模框架组件的制造方法，其中，

在形成所述图案区域时，形成沉积区域和虚拟区域，其中，所述沉积区域中形成有沉积用图案孔，所述虚拟区域中形成有虚拟用图案孔。

13.如权利要求12所述的掩模框架组件的制造方法，其中，所述掩模上交替地形成有多个所述沉积区域和多个所述虚拟区域。

14.如权利要求13所述的掩模框架组件的制造方法，其中，所述辅助孔形成在每个所述沉积区域与所述虚拟区域之间。

15.如权利要求14所述的掩模框架组件的制造方法，其中，所述辅助孔形成为大小随着沿所述一个方向远离所述沉积区域和所述虚拟区域而逐渐变小。

16.如权利要求15所述的掩模框架组件的制造方法，其中，相邻于所述沉积区域的辅助孔和相邻于所述虚拟区域的辅助孔之间设置有不具有任何辅助孔的无孔部间隔。

17.如权利要求15所述的掩模框架组件的制造方法，其中，相邻于所述沉积区域的辅助孔和相邻于所述虚拟区域的辅助孔以二者之间不具有无孔部间隔的方式连续相接地形成。

18.如权利要求13所述的掩模框架组件的制造方法，其中，位于所述掩模的两端部的所述图案区域外侧形成有所述辅助孔。