[发明专利]一种垂直结构发光二极管的制备方法有效
申请号: | 201510022433.1 | 申请日: | 2015-01-16 |
公开(公告)号: | CN104576850B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 李天保;贾伟;许并社;余春艳;章海霞 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙)14100 | 代理人: | 朱源 |
地址: | 030024 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明涉及一种垂直结构发光二极管的制备方法,以解决目前垂直结构发光二极管制备中存在的成本较高、良率低的技术问题。一种垂直结构发光二极管的制备方法,利用表面石墨烯化的薄片状Ti3AlC2材料作为衬底材料,生长发光二极管外延结构,外延结构包括n型掺杂层、多量子阱发光层和p型掺杂层。本发明以表面石墨烯化的Ti3AlC2材料作为衬底材料,一方面利用石墨烯层状结构特有的层间范德华力,生长了受晶格常数匹配约束较小的外延薄膜材料,另一方面利用Ti3AlC2材料在HF酸溶液中反应分解的特点,制备了垂直结构发光二极管,降低了器件的制造成本,提高了器件的成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 垂直 结构 发光二极管 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种垂直结构发光二极管的制备方法,其特征在于:利用表面石墨烯化的Ti3AlC2材料作为衬底材料生长发光二极管外延结构,外延结构从下至上分别是n型掺杂层、多量子阱发光层、p型掺杂层;n电极位于n型掺杂层下方,p电极位于p型掺杂层上方。
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