[发明专利]光栅耦合器及其制作方法在审
| 申请号： | 201480077242.9 | 申请日： | 2014-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN106461865A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 涂鑫;付红岩;赵飞 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B6/34;H01S5/10 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光栅耦合器及其制作方法，该光栅耦合器包括衬底层(10)、设置于衬底层(10)上的反射层(11)、设置于反射层(11)上的第一限制层(12)、设置于第一限制层(12)上的波导芯层(13)以及设置于波导芯层(13)上的第二限制层(14)。波导芯层(13)包括亚微米波导(130)、锥形波导(131)、扇形衍射光栅(132)和弧形分布布拉格反射光栅(133)。亚微米波导(130)与锥形波导(131)的窄端连接，锥形波导(131)的宽端与扇形衍射光栅(132)的凹面连接，扇形衍射光栅(132)的凸面与弧形分布布拉格反射光栅(133)的凹面连接。该光栅耦合器在垂直耦合的基础上，易于高密度集成、耦合损耗小。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 耦合器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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