[发明专利]CVD反应器的具有重量减小的排气板的进气机构

摘要

本发明涉及一种设备，用于实施CVD处理过程，所述设备具有进气机构(2)，所述进气机构(2)布置在反应器壳体(1)中并且具有朝向处理室(3)的排气板(8)，所述排气板(8)具有多孔材料和多个排气孔(9、9′)，通过布置在所述进气机构(2)中的气体分配室(7、21、26)为所述排气孔(9、9′)供给处理气体。为了从制造技术上改进具有较大涂层面的进气机构、尤其用于CVD反应器的进气机构，在此建议，多孔材料构成所述排气板(8)的芯件(12)，所述芯件(12)的与处理气体接触的表面区段被封装。

主权项

1.一种用于实施CVD处理过程的设备，所述设备具有布置在反应器壳体(1)中的进气机构(2)，所述进气机构(2)具有朝向处理室(3)的排气板(8)，所述排气板(8)具有多孔材料和多个排气孔(9、9′)，通过布置在所述进气机构(2)中的气体分配室(7)为所述排气孔(9、9′)供给处理气体，其特征在于，多孔材料构成所述排气板(8)的芯件(12)，所述排气板的与处理气体接触的表面区段被封装。/n