[发明专利]发光装置用基板、发光装置及发光装置用基板的制造方法有效
申请号: | 201480069824.2 | 申请日: | 2014-11-11 |
公开(公告)号: | CN105830241B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 小西正宏;伊藤晋 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L33/62 | 分类号: | H01L33/62;C23C4/11;C23C26/00;H01L33/60;H01L33/64 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 齐秀凤 |
地址: | 日本国大阪府大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 基板(5A)具备:铝基体(10);反射层(12),形成在用于与发光元件(6)取得电连接的电极图案(20)和铝基体(10)之间且含有反射来自发光元件(6)的光的第1陶瓷;以及中间层(11),含有通过喷镀而形成的第2陶瓷来加强反射层(12)的绝缘耐压性能。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 用基板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光装置用基板,其特征在于,具备:基体,由金属材料构成;第1绝缘层,形成在用于与发光元件取得电连接的电极图案和所述基体之间,并且含有反射来自所述发光元件的光的第1陶瓷;以及第2绝缘层,由被喷镀的第2陶瓷构成,用于加强所述第1绝缘层的绝缘耐压性能,所述第2绝缘层覆盖所述基体的一部分,所述发光装置用基板还具备:保护层,覆盖所述基体的剩余的一部分或者全部,并且覆盖至所述基体的侧面。
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