[发明专利]导电膜形成浴在审

专利信息
申请号: 201480064153.0 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN105765104A 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 竹内至哉;吉川纯二;北晃治 申请(专利权)人: 奥野制药工业株式会社
主分类号: C23C18/38 分类号: C23C18/38;C23C18/16;C23C18/40
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李新红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提供一种新颖的包含碱性水溶液的导电膜形成浴,其可以用于通过电镀在非导电塑料材料上形成膜,所述导电膜形成浴能够通过电镀形成具有优异外观并且不减少相对于非导电塑料材料的附着性的膜。本发明涉及一种导电膜形成浴,其含有水溶液,所述水溶液含有铜化合物、络合剂、碱金属氢氧化物和具有聚氧化烯结构的水溶性聚合物。
搜索关键词: 导电 形成
【主权项】:
一种导电膜形成浴,所述导电膜形成浴含有水溶液,所述水溶液含有铜化合物、络合剂、碱金属氢氧化物和具有聚氧化烯结构的水溶性聚合物。
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